東光高岳

電力用変圧器・開閉装置を主力とする重電メーカー。光応用計測やレーザ加工の技術を持ち、フォトマスク関連を含む精密計測・描画分野にも製品を展開している。

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当サイトでの位置づけ

Semirai では、電力機器で培った光応用・レーザ計測技術を半導体／マスク領域へ展開する国内メーカーとして扱います。装置専業とは異なる技術系譜からの参入例です。

企業の強み

電力機器で培った高信頼設計

光応用計測・レーザ技術の蓄積

国内一貫の設計・製造・保守体制

主要製品・ソリューション

計測・光応用機器

•光応用計測装置
•レーザ応用装置

関連装置カテゴリ

マスク描画装置

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。

メーカー 6 社マスク製造装置

マスク製造装置（フォトマスク・レチクル製造装置）は、半導体露光工程で使われるフォトマスク（レチクル）を製造・検査・修正する装置群です。

メーカー 7 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、東光高岳を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

フォトマスクとは→マスク描画とは→電子ビーム描画とは→計測（メトロロジー）とは→レチクル（フォトマスク）とは→

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