SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
マスク修正装置メーカー3社
マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。高価なフォトマスク（EUVマスクは1枚1億円超）の廃棄を避けるために不可欠な工程で、FIB（集束イオンビーム）や電子ビームを用いた精密加工が行われます。Zeiss（独）やNanometrics（米）などが主要サプライヤーです。
メーカー 3 社関連カテゴリ 1 件
主要特徴
FIB・電子ビームでマスク上の欠陥を原子レベルで除去・補修
EUVマスク（1枚1億円超）の廃棄回避に不可欠なコスト管理手段
Zeiss（独）が先端マスク修正装置で世界的な存在感を持つ
EUV世代では欠陥サイズが縮小し修正難易度が大幅に上昇
ペリクル（保護膜）との組み合わせで製造後の汚染対策も強化
よくある質問
メーカー
3社の主要メーカー
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比較・違いを学ぶ
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