マスク修正装置メーカー3社
マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。高価なフォトマスク（EUVマスクは1枚1億円超）の廃棄を避けるために不可欠な工程で、FIB（集束イオンビーム）や電子ビームを用いた精密加工が行われます。Zeiss（独）やNanometrics（米）などが主要サプライヤーです。
主要特徴
よくある質問
マスク修正装置とは何ですか？▾
マスク修正装置の主要メーカーはどこですか？▾
EUV世代でマスク修正が難しくなる理由は何ですか？▾
代表製品・スペック
| 修正方式 | 集束電子ビーム＋前駆体ガス |
| 対象マスク | EUV・高耐久位相シフトマスクほか |
| 特徴 | Rapid Probe Microscope による修正検証・3D 形状解析 |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの欠陥修正 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
3社の主要メーカー
電子ビーム応用装置のメーカー。フォトマスクの欠陥レビューSEMやマスク欠陥修正装置、測長SEMなどを供給し、マスク製造の品質保証工程を支える。
- •電子ビーム光学系の自社設計
- •マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群
ASMLのEUV光学系を独占供給するドイツの精密光学メーカー。EUVリソグラフィ用投影レンズ・照明光学系・ウェーハ検査用電子顕微鏡（ORION）も展開。
- •EUV露光装置用投影光学系をASMLに独占供給（戦略的不可欠パートナー）
- •半導体計測用FIB-SEMシステム（Crossbeam）で業界標準機
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
- •電子線描画装置（JBX シリーズ）で研究・試作向け市場を牽引
- •TEM/SEMなど電子顕微鏡で世界トップシェアを持つ
同じ分野の装置カテゴリ
マスク洗浄・乾燥装置は、フォトマスク（レチクル）表面に付着したパーティクル・有機汚染・ヘイズを除去する装置です。
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メーカー 6 社