SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
ウエハ製造装置メーカー9社Wafer Manufacturing Equipment
ウエハ製造装置は、前工程の手前に位置し、シリコンや化合物半導体のインゴット(単結晶)から鏡面ウェハを作り出す上流工程の装置群です。単結晶引上げ(CZ/FZ)で結晶を成長させ、ワイヤソーで薄くスライスし、ラッピング・研磨・面取りで原子レベルに平坦化された基板を仕上げます。ここで決まる結晶欠陥密度・反り(ワープ)・表面粗さ・厚みばらつきが、後続の露光・成膜・CMPの歩留まりを左右するため、ウェハ品質は半導体製造全体の出発点となります。近年はSiC・GaNなど化合物基板の量産化が進み、難加工材料に対応した専用装置の重要性が高まっています。
メーカー 9 社サブカテゴリ 4 件
重要ポイント
インゴット(単結晶)から鏡面ウェハを製造する前工程の手前の上流工程
主要工程:結晶引上げ(CZ/FZ)→スライシング(ワイヤソー)→ラッピング・研磨・面取り
結晶欠陥・反り・表面粗さ・厚みばらつきが後工程の歩留まりを決定
SiC・GaNなど難加工の化合物基板向け専用装置の需要が拡大
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