SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
ウェハ研磨・面取り装置メーカー7社
ウェハ研磨・面取り装置は、スライス直後のウェハ表面を鏡面化し、エッジを整える仕上げ工程の装置群です。ラッピング(粗研磨)で厚みとうねりを整え、面取り(エッジグラインダー)で割れ・欠けの起点となる外周を加工し、CMPによる最終ポリッシュで原子レベルの平坦・鏡面表面に仕上げます。表面粗さ・ナノトポグラフィ・残留ダメージが、後続の露光焦点深度や成膜均一性に直結します。
メーカー 7 社関連カテゴリ 3 件
主要特徴
ラッピング→面取り→ポリッシュ(CMP)でウェハを鏡面仕上げ
面取り(エッジ加工)で外周の割れ・欠けを防止
ナノトポグラフィ・表面粗さが後工程の露光・成膜品質を左右
前工程のCMP装置とは目的が異なる「ウェハ製造側」の平坦化工程
よくある質問
メーカー
7社の主要メーカー
関連カテゴリ
関連用語
比較・違いを学ぶ
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