当サイトでの位置づけ
SemiraiのCMP・工場インフラカテゴリでは、ウェハ平坦化に不可欠なCMP装置と、FAB排気・廃水処理の真空ポンプ・除害装置を両輪で提供する企業として参照されます。
企業の強み
CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
ウェーハ研磨技術とポンプ技術の両輪でFABインフラを支援
主要製品・ソリューション
CMP装置
- •FREX（300mm CMP）
- •F-REX（先端CMP）
真空ポンプ
- •EV-Aシリーズ（ドライ真空）
- •除害装置
荏原製作所の製品
関連装置カテゴリ
CMP装置
CMP（Chemical Mechanical Planarization：化学機械研磨）装置は、化学的作用と機械的研磨を組み合わせてウェハ表面の凹凸をナノメートル単位まで平坦化する前工程の中核装置です。
メーカー 6 社ファブインフラ（真空ポンプ）ファブインフラ設備は、半導体製造装置本体の外側で、工場（ファブ）全体の稼働を支える基盤設備群を指します。
メーカー 10 社真空ポンプ真空ポンプは、成膜（CVD/PVD/ALD）・エッチング・イオン注入など、真空環境を必要とする製造装置のチャンバー内を排気する基幹サブシステムです。
メーカー 8 社ウェハ研磨・面取り装置ウェハ研磨・面取り装置は、スライス直後のウェハ表面を鏡面化し、エッジを整える仕上げ工程の装置群です。
メーカー 8 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、荏原製作所を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
同じトピックの用語
ファブインフラ設備（排ガス・超純水・薬液供給）・CMP・平坦化・真空・ガス／薬液供給サブシステム・配線・メタライゼーション のトピックで関連する用語です。
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比較・違いを学ぶ
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