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荏原製作所

CMP(化学機械研磨)装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。

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当サイトでの位置づけ

SemiraiのCMP・工場インフラカテゴリでは、ウェハ平坦化に不可欠なCMP装置と、FAB排気・廃水処理の真空ポンプ・除害装置を両輪で提供する企業として参照されます。

企業の強み

CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
ウェーハ研磨技術とポンプ技術の両輪でFABインフラを支援

主要製品・ソリューション

CMP装置

  • FREX(300mm CMP)
  • F-REX(先端CMP)

真空ポンプ

  • EV-Aシリーズ(ドライ真空)
  • 除害装置

関連装置カテゴリ

CMP装置
ファブインフラ(真空ポンプ)
真空ポンプ
ウェハ研磨・面取り装置

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、荏原製作所を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

CMP(化学機械研磨)とは →ファブインフラ設備とは →洗浄とは →ドライ真空ポンプとは →ターボ分子ポンプ(TMP)とは →除害装置(スクラバー)とは →研磨ヘッド(キャリアヘッド)とは →ポストCMP洗浄とは →メタルCMP(Cu・W研磨)とは →酸化膜CMP(STI-CMP・ILD-CMP)とは →

同じトピックの用語

ファブインフラ設備(排ガス・超純水・薬液供給)・CMP・平坦化・真空・ガス/薬液供給サブシステム・配線・メタライゼーション のトピックで関連する用語です。

CMPとは →銅配線(ダマシン法)とは →クリーンルームとは →コバルト配線とは →ウェハ搬送・自動化とは →CMPスラリーとは →クライオポンプとは →ルテニウム配線とは →

同じトピックの企業

Entegris米国Applied Materials米国Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)GBMKS Instruments米国Lam Research米国Ultra Clean Holdings(UCT)米国

比較・違いを学ぶ

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