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化合物半導体基板製造装置(SiC/GaN)メーカー6

化合物半導体基板製造装置は、SiC・GaN・GaAs・InPなどシリコン以外の半導体基板を製造・成膜する装置群です。SiCは昇華法(PVT)による単結晶成長、GaNはサファイア等の異種基板上へのエピタキシャル成長(MOCVD/HVPE)が中心で、いずれも高温・難加工プロセスを要します。EV・高効率電源向けのSiCパワーデバイス、急速充電器・通信向けのGaNデバイスの需要拡大により、化合物基板とそのエピ装置の重要性が高まっています。

メーカー 6関連カテゴリ 3

主要特徴

SiC:昇華法(PVT)で単結晶を成長—パワー半導体の中核基板
GaN:異種基板上へのエピ成長(MOCVD/HVPE)が主流
Si比で高耐圧・低損失・高周波動作に優れる
EV・高効率電源・通信向けに需要が急拡大

よくある質問

化合物半導体基板とは何ですか?
SiC・GaN・GaAs・InPなど、複数元素から成る半導体の基板です。シリコンより高耐圧・高周波・高温動作に優れ、パワー・RFデバイスに使われます。
SiC基板の製造が難しい理由は?
2000℃を超える高温の昇華法で結晶を成長させる必要があり、成長速度が遅く欠陥制御も難しいため、製造コストが高くなります。

メーカー

6社の主要メーカー

AIXTRONドイツ

MOCVD・CVD装置の世界的リーダー。GaN LED・SiCエピタキシー・III-V族化合物半導体デバイスの量産に不可欠なエピタキシャル成長装置を提供する。

MOCVD装置
G10-SiC(SiCエピ)G5+ C(GaN LED)AIX G5+ WW(GaN HEMT パワー)
ALD装置
Planetary ALCVD
  • MOCVD装置で世界トップシェア(GaN LED・GaN HEMT)
  • SiC・InP・GaAsなど化合物半導体の幅広いプロセスに対応
Veeco Instruments米国

MOCVD・MBE・ALDなど薄膜エピタキシャル成長装置の専業メーカー。LED、化合物半導体、先端ロジック向けの精密成膜技術を提供。

MOCVD装置
EPIKTurboDisc
MBE装置
GENxcelシリーズ
ALD装置
FijiFiji G2
  • MOCVD装置でグローバルトップシェア
  • MBE・ALDを含む多様な薄膜成長技術ポートフォリオ
住友電気工業(SiC・化合物半導体)日本

電線・光ファイバを主事業に持つ住友電工の化合物半導体部門。SiCウェハ・GaAs・InP基板などパワーデバイス・光通信向けウェハを供給。

SiCウェハ
SiCエピウェハSiCバルクウェハ
化合物半導体基板
GaAs基板InP基板
  • SiCウェハで国内有数のサプライヤー
  • GaAs・InP化合物半導体基板の長年の製造実績
Wolfspeed米国

SiC(炭化ケイ素)パワーデバイスの世界最大手メーカー。EV・太陽光・産業用インバーター向けSiC MOSFETとSiCウェハを一貫製造。旧Cree社のパワー・RF半導体事業が独立し、200mmウェハへの移行を先行している。

SiC MOSFET
C3M™ SiC MOSFETWolfPACK™ パワーモジュール
SiCウェハ・エピ
150mm SiC基板200mm SiC基板(移行中)
GaN RF
CGHV Series(GaN HEMTパワーアンプ)
  • SiCウェハからデバイスまで垂直統合
  • 200mm SiCウェハの量産化を業界で先行
レゾナック(旧昭和電工)日本

2023年に昭和電工と日立化成が統合して発足した半導体材料の総合メーカー。CMPスラリー・半導体封止材・エピタキシャルウェーハ・SiCエピウェーハを主力とする。

研磨材料
CMPスラリー(酸化膜・メタル)CMP研磨パッド
半導体基板
SiCエピウェーハSiエピウェーハ
封止材
半導体封止コンパウンド(EMC)
  • CMPスラリー(High-Purity Colloidal Silica)で世界上位シェア
  • SiCエピタキシャルウェーハで国内最大手。パワー半導体市場の拡大を追い風に
タカトリ日本

奈良に本社を置く精密機械メーカー。シリコンやSiCのインゴットを切断するワイヤソーに加え、半導体・電子部品向けのダイシング関連装置や貼合・剥離装置を手掛ける。

ワイヤソー
インゴット切断用ワイヤソー
ダイシング関連
ダイシング装置貼合・剥離装置
  • ワイヤソーとダイシング装置の両方を保有
  • SiCなど硬脆材料の切断・加工技術

関連カテゴリ

単結晶製造装置(CZ/FZ引上げ)
ウェハ研磨・面取り装置
ワイヤソー・スライシング装置

関連用語

PVT法(昇華法)とは →SiCウェハとは →GaN-on-Siとは →サファイア基板とは →エピタキシャルウェハとは →レーザースライシングとは →化合物半導体とは →ワイドバンドギャップ半導体とは →GaN(窒化ガリウム)とは →SiC(炭化シリコン)とは →

比較・違いを学ぶ

GaN-on-SiとGaN-on-SiCの違い
GaNは自立基板が高価で入手性も限られるため、実用デバイスの多くは異種基板の上にGaN層をヘテロエピタキシャル成長させて作られます。その基板として競合するのがシ
SiCとGaN パワー半導体の違い
SiC(炭化ケイ素)とGaN(窒化ガリウム)はともにシリコンを超えるワイドバンドギャップ半導体ですが、得意な電圧域・周波数帯・用途が異なります。SiCは高耐圧・
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