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化合物半導体基板製造装置(SiC/GaN)メーカー6社
化合物半導体基板製造装置は、SiC・GaN・GaAs・InPなどシリコン以外の半導体基板を製造・成膜する装置群です。SiCは昇華法(PVT)による単結晶成長、GaNはサファイア等の異種基板上へのエピタキシャル成長(MOCVD/HVPE)が中心で、いずれも高温・難加工プロセスを要します。EV・高効率電源向けのSiCパワーデバイス、急速充電器・通信向けのGaNデバイスの需要拡大により、化合物基板とそのエピ装置の重要性が高まっています。
メーカー 6 社関連カテゴリ 3 件
主要特徴
SiC:昇華法(PVT)で単結晶を成長—パワー半導体の中核基板
GaN:異種基板上へのエピ成長(MOCVD/HVPE)が主流
Si比で高耐圧・低損失・高周波動作に優れる
EV・高効率電源・通信向けに需要が急拡大
よくある質問
メーカー
6社の主要メーカー