iXH Mk2 是 Edwards 適用半導體製程的乾式真空幫浦。設計上預設用於反應副產物多的嚴苛製程,實現較前代更長的服務壽命。
可在寬廣的溫度範圍內最佳化運轉,將幫浦內副產物的堆積降至最低。以新的幫浦密封技術延長製程中的壽命,並降低洩漏風險。也可選擇提高耐蝕性的 XCEDE 技術,電力效率較前代也大幅改善。
Edwards 的 iX 系列另有耗電最多減少 60%、耐蝕性為前系列 4 倍的低能耗 iXM 系列,以及用於晶圓傳送・PVD・量測等輕負載的 iXL 系列。
適用嚴苛半導體製程的乾式幫浦。以氣體阻隔技術與熱設計,具備 iH 系列 4 倍的耐蝕性。
iXH Mk2 是 Edwards 適用半導體製程的乾式真空幫浦。設計上預設用於反應副產物多的嚴苛製程,實現較前代更長的服務壽命。
可在寬廣的溫度範圍內最佳化運轉,將幫浦內副產物的堆積降至最低。以新的幫浦密封技術延長製程中的壽命,並降低洩漏風險。也可選擇提高耐蝕性的 XCEDE 技術,電力效率較前代也大幅改善。
Edwards 的 iX 系列另有耗電最多減少 60%、耐蝕性為前系列 4 倍的低能耗 iXM 系列,以及用於晶圓傳送・PVD・量測等輕負載的 iXL 系列。
| 方式 | 魯氏(Roots)乾式幫浦 |
|---|---|
| 特點 | 輸入功率 1.3 kW(較前代減少 60%)・粉體處理功能 |
| 系列組成 | iXM/iXH/iXL |
| 主要用途 | 多層蝕刻・CVD(腐蝕性氣體) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Edwards Vacuum(總部:英國)