Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)/真空ポンプ

iXH Mk2

過酷な半導体プロセス向けのドライポンプ。ガスバリア技術と熱設計で iH シリーズ比 4 倍の耐食性を持つ。

iXH Mk2とは

iXH Mk2 は、Edwards の半導体プロセス向けドライ真空ポンプです。反応副生成物が多い過酷なプロセスでの使用を想定し、前世代より長いサービス寿命を実現しています。

広い温度範囲で運転を最適化でき、ポンプ内での副生成物の堆積を最小限に抑えます。新しいポンプシール技術でプロセスでの寿命を延ばし、リークのリスクを減らしています。耐食性を高める XCEDE 技術も選べ、前世代に比べて電力効率も大きく改善しました。

Edwards の iX シリーズには、消費電力を最大 60% 減らし、耐食性を前シリーズの 4 倍にした低エネルギーの iXM シリーズや、ウェーハ搬送・PVD・計測などの軽負荷用の iXL シリーズもあります。

主な特長

  • •過酷なプロセス向けで長いサービス寿命
  • •広い温度範囲で副生成物の堆積を抑制
  • •新しいポンプシール技術
  • •XCEDE 耐食技術(オプション)

主な仕様

方式ルーツ式ドライポンプ
特徴入力電力 1.3 kW(前世代比 60% 減)・粉体処理機能
シリーズ構成iXM/iXH/iXL
主要用途多層エッチング・CVD(腐食性ガス)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

ドライ真空ポンプ:3機種の比較

項目Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)iXH Mk2荏原製作所EV-M型樫山工業NeoDry G シリーズ
方式ルーツ式ドライポンプドライ真空ポンプ(回転速度制御)空冷ドライ真空ポンプ
特徴入力電力 1.3 kW(前世代比 60% 減)・粉体処理機能省エネ運転・最大排気量 110,000 L/min モデルあり静音性・水蒸気処理能力を NeoDry-E から向上
シリーズ構成iXM/iXH/iXLEV-M 型/EV-X 型NeoDry-E(7E ~ 300E)/NeoDry-G
主要用途多層エッチング・CVD(腐食性ガス)エッチング・CVD・拡散半導体・電子部品などの真空排気

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •CVD・エッチングなど副生成物の多いプロセスの排気

掲載カテゴリ

iXH Mk2は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)

半導体ファブ向け真空ポンプ・排気処理(アベートメント)システムの世界大手。ドライポンプ・ブースターポンプ・PFASフリー排ガス処理まで一貫提供し、ファブのインフラを支える。

Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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関連用語

出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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