真空幫浦是什麼

真空幫浦是將薄膜沉積(CVD/PVD/ALD)、蝕刻、離子佈植等需要真空環境之製造設備的腔體內部抽氣的核心子系統。從大氣壓到中真空使用乾式幫浦,高真空・超高真空則搭配渦輪分子幫浦使用。由於半導體製程會處理腐蝕性・沉積性氣體,因此重視耐蝕性・抗微粒性與稼動率(連續運轉),直接支撐設備的產出量與可靠度。

重點整理

薄膜沉積・蝕刻・離子佈植等真空製程設備不可或缺
乾式幫浦(粗抽)+渦輪分子幫浦(高真空)的組合
對腐蝕性・沉積性氣體的耐蝕性・抗微粒性十分重要
稼動率(連續運轉)左右設備產出量

常見問題

乾式幫浦與渦輪分子幫浦有何不同?
乾式幫浦負責從大氣壓到中真空的粗抽,渦輪分子幫浦則用於取得高真空・超高真空。通常兩者會搭配運用。
半導體用真空幫浦有什麼特徵?
需要能耐受腐蝕性・沉積性製程氣體的設計,以及可長時間連續運轉的可靠度,也經常與尾氣處理(abatement)一體運用。

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