最後更新:2026年10月23日MBE 設備(分子束磊晶)

MBE 6000的特點與規格

Riber・MBE 設備(分子束磊晶)

專為 III-V 族結構量產設計的 MBE 平台。具有連續運轉超過 1 年的實績。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

MBE 6000 是 Riber 的量產用 MBE(分子束磊晶)設備。廠商將其定位為「高產能與再現性的 MBE 標竿」,已被全球大型半導體企業採用為量產設備。

可在 3 吋、4 吋、6 吋、200mm 各尺寸同時成長多片晶圓,具高產能與再現性。連續運轉(campaign)超過 1 年的穩定性已獲證實,工廠中也有並排 2~8 台運作的案例。

主要用途為微波元件用材料,特別是 P-HEMT 晶圓的製造,以及含砷・磷・銻的光元件材料。用於磊晶晶圓外售廠商及自家內部的磊晶生產。

主要規格

用途分類量產機
適用基板3/4/6 吋・200 mm(每批 4 片 6 吋)
主要用途通訊用電子・光元件(P-HEMT・光子學)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

3/4/6 吋・200mm 多片晶圓同時成長
高產能與再現性
連續運轉超過 1 年的穩定性

主要用途

  • P-HEMT 等微波元件用磊晶晶圓
  • As・P・Sb 系光元件材料

製造商

Riber(總部:法國)

所屬設備分類

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資料來源

  1. Riber 官方產品頁面:Riber MBE 6000