MBE 6000とは
MBE 6000 は、Riber の量産用 MBE（分子線エピタキシー）装置です。メーカーは「高スループットと再現性の MBE ベンチマーク」と位置づけ、世界の大手半導体企業に量産装置として採用されてきました。
3インチ、4インチ、6インチ、200mm の各サイズで複数ウェーハを同時に成長でき、高いスループットと再現性を持ちます。1年を超えるキャンペーン（連続稼働）の安定性が実証されており、工場では 2〜8 台を並べて運用する例があります。
主な用途は、マイクロ波デバイス用材料、とくに P-HEMT ウェーハの製造と、ヒ素・リン・アンチモンを含む光デバイス材料です。エピウェーハの外販メーカーや自社内のエピ生産で使われています。
主な特長
- •3／4／6 インチ・200mm の複数ウェーハ同時成長
- •高スループットと再現性
- •1年を超える連続キャンペーンの安定性
主な仕様
| 用途区分 | 量産機 |
|---|---|
| 対応基板 | 3／4／6 インチ・200 mm（6 インチ 4 枚／回） |
| 主要用途 | 通信向け電子・光デバイス（P-HEMT・フォトニクス） |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •P-HEMT などマイクロ波デバイス用エピウェーハ
- •As・P・Sb 系の光デバイス材料
掲載カテゴリ
MBE 6000は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Riber
フランスの分子線エピタキシー（MBE）装置メーカー。研究・産業向けの MBE システム、300mm シリコン対応 MBE システム、分子線源、ヒーター・マニピュレータなどの部品とサービスを提供する。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06