COMPANY DATABASE
カート・J・レスカー（Kurt J. Lesker）
真空機器・PVD（物理気相成長）スパッタ装置の専業メーカー。真空チャンバー・スパッタターゲット材料から装置まで一貫供給し、研究開発から量産用途まで対応する。
当サイトでの位置づけ
Semirai の成膜装置カテゴリでは、真空機器・PVDスパッタ装置の専業メーカーとして、研究開発から量産まで幅広い成膜ニーズを支える立場にあります。
企業の強み
真空機器・PVD装置を一貫供給
スパッタターゲット材料も自社展開
研究開発用途で豊富な導入実績
主要製品・ソリューション
成膜装置・真空機器
- •PVDスパッタ装置
- •真空チャンバー
- •スパッタターゲット材料
📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、カート・J・レスカー（Kurt J. Lesker）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
同じトピックの用語
成膜（CVD/PVD/ALD） のトピックで関連する用語です。
同じトピックの企業
比較・違いを学ぶ
CVDとPVDの違い（成膜プロセス比較）
CVD（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）は気相の化学反応で薄膜を堆積し、PVD（Physical Vapor Depositi…
ALDとCVDの違い（原子層成膜 vs 化学気相成膜）
CVD（Chemical Vapor Deposition）は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD（Atomic Layer Depositi…
PECVDとLPCVDの違い（プラズマCVD vs 熱CVD）
PECVDとLPCVDはどちらもCVD（化学気相成長）の一方式ですが、活性化エネルギーの源泉が根本的に異なります。PECVD（Plasma Enhanced C…
ALDとPVDの違い（原子層成膜 vs スパッタ成膜）
ALD（Atomic Layer Deposition：原子層堆積）とPVD（Physical Vapor Deposition：物理気相成長）は、どちらも半導…
MOCVDとMBEの違い（化合物半導体エピタキシー比較）
MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition：有機金属気相成長）はGaN LED・パワーHEMT・HBT・レーザー…
FOR COMPANIES
貴社の情報をSemiraiに掲載しませんか？
無料プランからご利用いただけます。