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CVDエクイップメント(CVD Equipment Corporation)

CVD(化学気相成長)システムの専業メーカー。半導体・化合物半導体・カーボンナノチューブ等の先端材料向けCVD装置を研究開発・量産双方に供給する。

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当サイトでの位置づけ

Semirai の成膜装置カテゴリでは、CVDシステムの専業メーカーとして、化合物半導体・炭素材料向けの成膜装置を供給する立場にあります。

企業の強み

CVDシステムの専業メーカー
化合物半導体・先端材料向けに対応
研究開発用途向けのカスタマイズ性

主要製品・ソリューション

成膜装置

  • CVDシステム

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、CVDエクイップメント(CVD Equipment Corporation)を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

CVD(化学気相成長)とは →化合物半導体とは →エピタキシー(エピ成長)とは →

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成膜(CVD/PVD/ALD) のトピックで関連する用語です。

PVDとは →ALDとは →ALD(原子層堆積)とは →成膜とは →

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比較・違いを学ぶ

CVDとPVDの違い(成膜プロセス比較)
CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)は気相の化学反応で薄膜を堆積し、PVD(Physical Vapor Depositi
ALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)
CVD(Chemical Vapor Deposition)は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD(Atomic Layer Depositi
PECVDとLPCVDの違い(プラズマCVD vs 熱CVD)
PECVDとLPCVDはどちらもCVD(化学気相成長)の一方式ですが、活性化エネルギーの源泉が根本的に異なります。PECVD(Plasma Enhanced C
ALDとPVDの違い(原子層成膜 vs スパッタ成膜)
ALD(Atomic Layer Deposition:原子層堆積)とPVD(Physical Vapor Deposition:物理気相成長)は、どちらも半導
MOCVDとMBEの違い(化合物半導体エピタキシー比較)
MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition:有機金属気相成長)はGaN LED・パワーHEMT・HBT・レーザー
CVDエクイップメント(CVD Equipment Corporation) 公式サイトへ

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