Mega MFⅦ 是 Air Water Mechatronics 的 CMP 研磨液調配・供應系統。針對半導體工廠的 CMP 設備，以及研磨玻璃・矽等基板的設備，調配並供應研磨液藥液。依據與 Kinetics Equipment Group 的授權合約在日本國內製造。
CMP 研磨液是含有磨粒的液體，一旦發生沉降或凝聚，就會造成研磨刮傷與研磨速率不均。本系統以均質且穩定處理研磨液的技術為特點，標榜全年 365 天 24 小時穩定供應，以及最多降低 70% 的維護成本。
產品陣容除了 CMP 設備用的集中供應系統外，還有研發用的局部供應系統、過硫酸銨（APS）粉末的集中供應、界面活性劑的加壓輸送集中供應、過氧化氫水的自動濃度量測・補充系統（ATRS），以及監控與資料擷取系統（SCADA）。