Mega™ MFⅦ（CMPスラリー調合・供給システム）

液種に応じてスラリーの濃度や粒子径をそろえて調合・集中供給する設備。Kinetics 社とのライセンス契約で国内製造している。

Mega MFⅦとは

Mega MFⅦ は、エア・ウォーター・メカトロニクスの CMP スラリー調合・供給システムです。半導体工場の CMP 設備や、ガラス・シリコンなどの基板を研磨する設備に向けて、スラリー薬液を調合して供給します。Kinetics Equipment Group とのライセンス契約に基づいて国内で製造しています。

CMP スラリーは砥粒を含む液体で、沈降や凝集を起こすと研磨傷や研磨速度のばらつきの原因になります。同システムはスラリーを均質かつ安定に扱う技術を特長とし、365 日 24 時間の安定供給と、最大 70% のメンテナンスコスト削減をうたっています。

製品ラインアップには、CMP 装置向けの集中供給システムのほか、研究開発用のローカル供給システム、過硫酸アンモニウム（APS）粉末の集中供給、界面活性剤の加圧圧送集中供給、過酸化水素水の自動濃度測定・補充システム（ATRS）、監視制御データ収集システム（SCADA）があります。

主な特長

•スラリーの均質・安定取扱技術
•365 日 24 時間の安定供給
•メンテナンスコスト最大 70% 削減
•H₂O₂ 自動濃度測定・補充、SCADA などの周辺システム

主な仕様

供給方式	集中調合・供給（研究開発用ローカル供給も）
特徴	スラリーの均質・安定取扱、メンテナンスコスト最大 70% 削減
主要用途	半導体工場の CMP 工程へのスラリー供給

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	エア・ウォーターMega™ MFⅦ（CMPスラリー調合・供給システム）	タツモ（Tazmo）New MX2000
供給方式	集中調合・供給（研究開発用ローカル供給も）	ポンプレス供給
主要用途	半導体工場の CMP 工程へのスラリー供給	CMP 工程へのスラリー供給

1機種だけが掲載している項目（2件）