最後更新:2026年10月23日MBE 設備(分子束磊晶)

GENxplor的特點與規格

Veeco・MBE 設備(分子束磊晶)

採用與 GEN10 相同成長室設計的研發用 MBE。將真空設備與電控整合於 1 個機架,比其他 MBE 最多小 40%。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

GENxplor 是 Veeco 的研發用 MBE(分子束磊晶)系統,可在最大 3 吋的基板上成長高品質磊晶層。採用經實績驗證的 3 吋成長室設計,並將真空設備與電控整合於 1 個機架,使佔地面積比競爭對手的 MBE 系統小約 40%。

備有超過 1850°C 的電子束加熱器,以及額定 1850°C 的選配超高溫基板加熱器 Nova。開放式結構使擴散爐(effusion cell)容易接近,兼顧維護性與安裝便利性。以 Molly 軟體進行配方開發、成長自動管理與資料記錄。

用於 GaAs、氮化物、氧化物、紫外光 LED、高效率太陽能電池、高溫超導體、2 維材料等的材料研究。也提供直接移轉至量產規模 GEN20、GEN200、GEN2000 的途徑。

主要規格

用途分類研發機(量產用為 GEN10 叢集)
適用基板最大 3 吋
主要用途GaAs・氮化物・氧化物的材料研究

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

最大 3 吋基板,單一機架使佔地面積減少約 40%
超過 1850°C 的電子束加熱器(Nova 基板加熱器為選配)
以 Molly 軟體進行配方・成長・資料管理
移轉至量產機 GEN20/GEN200/GEN2000 的路徑

主要用途

  • GaAs・氮化物・氧化物的材料研究
  • 紫外光 LED・太陽能電池・超導體・2 維材料

製造商

Veeco(總部:美國)

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資料來源

  1. Veeco 官方產品頁面:Veeco GENxplor