GENxplor™

GEN10 と同じ成長室設計を使う研究開発向け MBE。真空機器と電装を1フレームにまとめ、他の MBE より最大 40% 小さい。

GENxplorとは

GENxplor は、Veeco の研究開発用 MBE（分子線エピタキシー）システムです。最大 3 インチの基板に高品質なエピタキシャル層を成長させます。実績のある 3 インチ成長室の設計を使い、真空機器と電装を1つのフレームにまとめたことで、競合の MBE システムより設置面積を約 40% 小さくしています。

1850°C を超える電子ビームヒーターや、1850°C 定格のオプションの超高温基板ヒーター Nova を用意しています。オープンな構造でエフュージョンセルにアクセスしやすく、保守性と設置の容易さにも配慮されています。ソフトウェア Molly でレシピ開発、成長の自動管理、データロギングを行います。

GaAs、窒化物、酸化物、紫外 LED、高効率太陽電池、高温超伝導体、2次元材料などの材料研究に使われます。量産規模の GEN20、GEN200、GEN2000 へ直接移行する道も用意されています。

主な特長

•最大 3 インチ基板、単一フレームで設置面積約 40% 減
•1850°C 超の電子ビームヒーター（Nova 基板ヒーターはオプション）
•Molly ソフトウェアによるレシピ・成長・データ管理
•量産機 GEN20／GEN200／GEN2000 への移行パス

主な仕様

用途区分	研究開発機（量産向けは GEN10 クラスター）
対応基板	最大 3 インチ
主要用途	GaAs・窒化物・酸化物の材料研究

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	RiberMBE 6000	Veeco InstrumentsGENxplor™	エピクエストRC1100
用途区分	量産機	研究開発機（量産向けは GEN10 クラスター）	小型研究用
主要用途	通信向け電子・光デバイス（P-HEMT・フォトニクス）	GaAs・窒化物・酸化物の材料研究	大学・研究機関の新材料開発
対応基板	3／4／6 インチ・200 mm（6 インチ 4 枚／回）	最大 3 インチ	—