COMPANY DATABASE

PSK Holdings

韓国の半導体前工程装置メーカー。フォトレジストを除去するドライストリップ(アッシング)装置で世界的なシェアを持ち、プラズマドーピングやドライクリーニング装置も展開する。

🌐 韓国装置メーカー公式サイト

当サイトでの位置づけ

Semirai のイオン注入カテゴリでは、プラズマドーピング(PLAD)とドライストリップ装置を供給する韓国メーカーとして位置づけられます。

企業の強み

ドライストリップ(アッシング)装置で世界上位
プラズマドーピング(PLAD)装置を供給
韓国メモリメーカーへの納入実績

主要製品・ソリューション

ドライストリップ装置

  • アッシング装置

ドーピング装置

  • プラズマドーピング(PLAD)

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、PSK Holdingsを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

プラズマドーピング(PLAD)とは →アッシングとは →ドライ洗浄(ケミカルドライクリーニング)とは →

同じトピックの用語

イオン注入・熱処理 のトピックで関連する用語です。

イオン注入とは →イオン注入とは →アニール(熱処理)とは →急速熱処理(RTP)とは →拡散炉とは →熱処理(半導体製造)とは →熱バジェットとは →ドーパント活性化とは →

同じトピックの企業

Applied Materials米国Axcelis Technologies米国住友重機械イオンテクノロジー日本日新イオン機器日本Kokusai Electric(国際電気)日本Mattson Technology米国

比較・違いを学ぶ

レーザーアニールとRTP(急速熱処理)の違い
RTP(Rapid Thermal Processing)はハロゲンランプで基板全体を数秒〜数十秒で1000°C以上に急速加熱するのに対し、レーザーアニール(L
イオン注入と熱拡散の違い(不純物導入プロセスの比較)
イオン注入(Ion Implantation)は不純物(ドーパント)をイオン化・加速して基板に物理的に打ち込む方法で、ドーズ量と加速エネルギーにより濃度と接合深
スパイクアニールとフラッシュランプアニールの違い
イオン注入したドーパントを活性化するには高温が要りますが、高温に留まればドーパントが拡散して接合が深く広がってしまいます。この矛盾をどう解くかが活性化アニールの
ビームライン式イオン注入とプラズマドーピングの違い
どちらもウェハにドーパントを打ち込む手法ですが、イオンの届け方が根本的に違います。ビームライン式は「選別したイオンを一本のビームにして走査する」、PLADは「プ
PSK Holdings 公式サイトへ

FOR COMPANIES

貴社の情報をSemiraiに掲載しませんか?

無料プランからご利用いただけます。

掲載プランを見る →
← 企業一覧に戻る