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Axcelis Technologies

イオン注入装置の専業メーカー。Purionシリーズで低〜高エネルギーの注入をカバーし、先端ロジック・メモリ・SiCパワー半導体の製造を支える。

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当サイトでの位置づけ

Semiraiのイオン注入カテゴリでは、低エネルギー〜高エネルギーの広い注入レンジをカバーするPurionシリーズが前工程ドーパント制御の代表事例として参照されます。

企業の強み

イオン注入装置のグローバル主要サプライヤー
Purionシリーズによる幅広いドーズ・エネルギー対応
SiCパワーデバイス向け高電流注入に強み

主要製品・ソリューション

イオン注入装置

  • Purion H
  • Purion XE
  • Purion M
  • Purion EXt

関連装置カテゴリ

前工程装置

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Axcelis Technologiesを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

イオン注入とは →ビームライン式イオン注入装置とは →ドーズ量(注入量)とは →ハロー注入(ポケット注入)とは →チャネリング(イオン注入)とは →

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イオン注入とは →アニール(熱処理)とは →急速熱処理(RTP)とは →拡散炉とは →熱処理(半導体製造)とは →熱バジェットとは →ドーパント活性化とは →レーザアニールとは →

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