レーザーアニール装置メーカー2社

レーザーアニール装置は、ウェハ表面にレーザー光（UVエキシマレーザーまたはグリーンレーザー）を照射し、ミリ秒以下の超短時間で局所的に高温処理を行う熱処理装置です。基板全体を加熱せず表面のみを瞬間加熱するため、熱予算（サーマルバジェット）を極限まで削減できます。イオン注入後の不純物活性化、シャロージャンクション形成、多結晶シリコンの単結晶化（ELA：エキシマレーザーアニール）などに使用されます。FinFET・GAAなど3D構造デバイスの製造や、3D積層構造でのバックサイドパワーデリバリー（BSPD）において、下層デバイスへの熱ダメージを回避する重要技術として採用が拡大しています。