SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
拡散炉メーカー4社
拡散炉（Diffusion Furnace）は、複数のウェハ（数十〜百枚以上）を石英管内に並べ、高温（600〜1200°C）の雰囲気ガス中で同時に熱処理するバッチ式熱処理装置です。熱酸化（Si→SiO₂）・CVD（LPCVD）・アニール・不純物拡散などの工程に使われ、大量処理により高いスループットと低コストを実現します。国際電気（Kokusai Electric：旧日立国際電気）・東京エレクトロン（TEL）・ASMが主要メーカーです。
メーカー 4 社関連カテゴリ 3 件
主要特徴
数十〜百枚を同時バッチ処理するため高スループット・低コストを実現
熱酸化・LPCVD（CVD成膜）・不純物拡散・アニールなど多用途
成熟ノードではまだ主力だが先端ノードでは熱予算制約からRTPに移行
Kokusai Electric（国際電気）・TEL・ASMが世界主要3社
縦型炉が主流で占有面積の削減と均一性向上を両立
よくある質問
メーカー
4社の主要メーカー
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関連用語
比較・違いを学ぶ
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