フォトマスクブランクスメーカー2社

フォトマスクブランクスは、フォトマスク（レチクル）製造の基材となる精密ガラス基板です。合成石英ガラス上にクロム（Cr）薄膜や位相シフト材（MoSi：ハーフトーン型）が成膜されており、電子線描画装置でパターン描画後にエッチングして最終マスクとなります。EUV用マスクブランクスはULE（超低熱膨張）ガラス上にMo/Si多層反射膜（40層以上）を成膜した特殊品で、世界的に製造可能なメーカーが極めて限定されています。ブランクス表面の欠陥密度（5nm以上の欠陥ゼロ）がマスク品質・ウェハ歩留まりに直結するため、超精密研磨・洗浄・検査の各工程が重要です。EUVブランクスはHOYA・AGCが主要サプライヤーです。