フォトマスクブランクスメーカー2社
フォトマスクブランクスは、フォトマスク（レチクル）製造の基材となる精密ガラス基板です。合成石英ガラス上にクロム（Cr）薄膜や位相シフト材（MoSi：ハーフトーン型）が成膜されており、電子線描画装置でパターン描画後にエッチングして最終マスクとなります。EUV用マスクブランクスはULE（超低熱膨張）ガラス上にMo/Si多層反射膜（40層以上）を成膜した特殊品で、世界的に製造可能なメーカーが極めて限定されています。ブランクス表面の欠陥密度（5nm以上の欠陥ゼロ）がマスク品質・ウェハ歩留まりに直結するため、超精密研磨・洗浄・検査の各工程が重要です。EUVブランクスはHOYA・AGCが主要サプライヤーです。
スペック比較
このページの製品は種類が異なります。まず種類で絞り込み、同じ種類の製品どうしを比較してください。
| 種類 | メーカー | 製品 | 主要用途 |
|---|---|---|---|
| マスクブランクス | HOYA | EUV マスクブランクス | — |
| HOYA | ArF 用バイナリ／位相シフトマスクブランクス | — | |
| ガラス基板 | AGC（旭硝子） | フォトマスク用合成石英ガラス基板 | ArF／KrF マスクブランクス用基板 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
| 構造 | ガラス基板＋多層金属膜 |
| 対応世代 | 3nm 世代など先端ノード |
| 開発中 | 位相シフト・High-NA・Hyper-NA 対応 |
| 主要顧客 | ファウンドリ・半導体メーカー |
ArF 用バイナリ／位相シフトマスクブランクス
合成石英基板に MoSi 系遮光膜を成膜した透過型ブランクス。位相シフト型は光の干渉を使って解像度とコントラストを稼ぐ。
| 基板材質 | 合成石英ガラス |
| 遮光膜 | MoSi 系／Cr 系 |
| 対応露光波長 | 193 nm（ArF）・248 nm（KrF） |
| 外形 | 6025（152 × 152 × 6.35 mm） |
| 管理指標 | 膜厚均一性・欠陥密度・透過率 |
フォトマスク用合成石英ガラス基板
マスクブランクスの土台となる高均質合成石英基板。屈折率の均質性と複屈折の小ささが、露光時の重ね合わせ精度に直接効いてくる。
| 材質 | 合成石英ガラス（低複屈折） |
| 外形 | 6025（152 × 152 × 6.35 mm） |
| 平坦度の目安 | サブ µm オーダー |
| 管理指標 | 屈折率均質性・複屈折・表面粗さ |
| 主要用途 | ArF／KrF マスクブランクス用基板 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
2社の主要メーカー
光学・医療・情報技術の世界的企業。半導体分野ではフォトマスクブランクのトップサプライヤーで、EUV用マスクブランクの開発・供給で世界的存在感を持つ。
- •EUV・ArF液浸用フォトマスクブランクで世界トップクラスのシェア
- •超高純度合成石英ガラス基板の製造技術で高い障壁
世界最大級のガラス・化学素材メーカー。半導体分野ではEUVマスクブランク用超低熱膨張ガラス基板の主要サプライヤーで、フッ化物光学部品・EUV光学素材でも重要な役割を担う。
- •EUVマスクブランク用超低熱膨張ガラス（LTEM）基板の主要サプライヤー
- •フッ化物光学部品（CaF2レンズ）・EUV光学素材の製造技術
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