Verdict結論
ArF曝光與KrF曝光最大的差異在於「光源波長」。ArF使用氟化氬準分子雷射的193nm，以在投影透鏡與晶圓之間注入純水的浸潤式（ArFi）實現有效NA>1，可支援45nm～20nm節點，搭配多重圖案化可達7nm左右。KrF使用氟化氪的248nm，不支援浸潤式，目前仍用於250nm～130nm的成熟節點與先進元件的非關鍵層。
主要差異
| 比較面向 | ArF曝光（193nm） | KrF曝光（248nm） |
|---|---|---|
| 光源雷射・波長 | 氟化氬（ArF）準分子雷射：193nm | 氟化氪（KrF）準分子雷射：248nm |
| 浸潤式曝光 | ArFi（浸潤式）：在投影透鏡與晶圓之間注入純水（n=1.44），實現有效NA>1 | 不支援浸潤式（僅乾式曝光） |
| 解析度（參考） | 乾式：90nm左右，ArFi浸潤式：支援45nm～20nm節點（搭配多重圖案化可達7nm左右） | 主要適用節點為250nm～130nm左右 |
| 適用節點 | 先進邏輯（7nm～）・DRAM・NAND（關鍵層／部分非關鍵層） | 成熟節點（250nm～130nm）・先進元件的非關鍵層 |
| 多重圖案化 | 搭配SADP/SAQP・LELELE等進行微縮。EUV普及後仍大量作為補充使用 | 主要以單次或雙重曝光（LELE）程度使用 |
| 光阻 | 化學放大型ArF光阻（CAR）・與EUV光阻設計不同 | 化學放大型KrF光阻（CAR） |
| 代表設備廠商 | 艾司摩爾（NXT系列：NXT:2100i等）・尼康（NSR系列）・佳能（FPA-8300iZ等） | 艾司摩爾（PAS 5500系列）・尼康・佳能 |
| 設備價格（參考） | ArFi浸潤式機台：數十億日圓～超過100億日圓（依機型與規格差異很大） | 價格相對ArF較低。二手市場也有流通 |
EUV普及後ArF與KrF仍在第一線的原因
EUV集中用於閘極、接觸窗、通孔等關鍵層，但完成1片晶圓需要100道以上的曝光步驟，其中多數由ArF或KrF負責。即使是先進3nm邏輯，EUV使用一般也只占全部曝光步驟的20～30%左右，其餘為ArFi（多重曝光）與KrF。從成本、產能與設備台數的角度來看，ArF與KrF今後仍將是半導體晶圓廠的主力設備。
什麼是ArFi：浸潤式ArF曝光的原理
ArFi（ArF浸潤式）是在投影透鏡與晶圓之間填充折射率n=1.44的純水，實現比空氣中（n=1.0）更高NA的曝光技術。NA由n×sinθ決定，因此在純水中即使透鏡角度相同，解析度也能提升44%。ASML的NXT:2100i NA=1.35，產能超過300WPH。ArFi搭配SADP或SAQP可支援到7nm節點左右，在EUV普及的現在仍是邏輯、DRAM、NAND的主力曝光技術。
常見問題
ArF曝光機與KrF曝光機的差異是什麼？
最大的差異是光源波長。ArF為193nm、KrF為248nm，波長越短解析度越高。ArF搭配浸潤式（ArFi）技術可支援45nm以下的先進節點，KrF則主要用於250～130nm左右的成熟節點。目前先進晶圓廠以ArFi（浸潤式）為主力，KrF用於非關鍵層與成熟產品的量產。
ArF浸潤式（ArFi）是什麼？（ArFi的定義）
ArFi（ArF浸潤式，ArF Immersion）是使用193nm ArF雷射的曝光機，在投影透鏡與晶圓之間填充純水（折射率n=1.44），將數值孔徑（NA）延伸到1以上的技術。在空氣中曝光（乾式ArF）時NA<1是極限，浸潤式則可提升解析度。代表機型為ASML的NXT:2100i，產能超過305WPH。
EUV與ArFi普及後，KrF還在使用嗎？
是的，目前仍有大量機台在運轉。先進晶圓廠製造1片晶圓需要100道以上的曝光步驟，但EUV只用在少數幾個關鍵層。其他多數層（非關鍵的導線層、接觸窗等）都以ArF或KrF曝光。特別是在成熟節點以及類比・功率半導體的製造中，KrF至今仍是主力設備。
ArF曝光機的產能（WPH）大約是多少？
代表性的產能為：ArFi浸潤式（ASML NXT:2100i）：最高305 WPH（片/小時），ArF乾式（ASML XT:1900i等）：200 WPH左右，KrF（ASML PAS 5500等）：依機型而異，約100～200 WPH。相較EUV的NXE:3800E（約220 WPH），ArFi產能高、成本效益優異。
導入EUV後仍需要ArF與KrF的原因是什麼？
EUV設備單價超過170億日圓，產能也低於ArFi，因此將所有步驟都換成EUV在經濟上並不可行。典型的先進邏輯晶圓（3nm節點）中，使用EUV的曝光步驟約占全部的20～30%，其餘為ArFi或KrF。此外，在成熟節點（28nm～130nm等）的量產中，ArF與KrF仍比EUV更具成本效益。
ArF與KrF哪一種設備比較貴？
ArFi浸潤式機台貴上許多。ASML NXT:2100i等最新ArFi設備據稱為數十億～超過100億日圓。KrF設備依機型而異，但價格相對較低，二手市場也有流通。EUV設備（NXE:3600D：約170億日圓）的價格又遠高於ArFi。