EUV 光罩基板的特點與規格

HOYA 的 EUV 空白光罩，是 EUV 曝光所使用光罩的材料。在玻璃基板上堆疊多層金屬膜製成。光罩廠商在此空白光罩上描繪電路圖形，完成光罩。

HOYA 在 EUV 空白光罩擁有非常高的市占率，具有對半導體微細化做出貢獻的實績。支援 3nm 世代等先進節點，也在推進針對相移型以及 High-NA、Hyper-NA 的開發。

主要客戶為晶圓代工廠與半導體廠商。2024 年度的營收，受前一年庫存調整的反彈與 EUV 帶動的微細化進展影響，扣除匯率影響後成長 35%。