空白光罩（Mask Blank）是用來製造光罩（reticle）的素材基板，是在超高純度合成石英玻璃基板上形成遮光膜・相位移膜・抗反射膜等、尚未圖案化的基板。以電子束寫入機在空白光罩上寫入圖案，經過顯影・蝕刻・檢測後，就成為完成的光罩。
DUV 用空白光罩是在石英基板上形成鉻（Cr）膜或 MoSi（矽化鉬）相位移膜。鉻光罩製造成本低，作為泛用品普及；MoSi 半色調相位移光罩則具有光學鄰近效應修正（OPC）效果，用於先進節點。
EUV 用空白光罩的結構完全不同。EUV 光（13.5nm）會被物質強烈吸收，因此採用反射式而非穿透式結構。在超低熱膨脹玻璃（LTEM 基板）上沉積 40 對 Mo/Si 多層反射膜，再形成 TaN（氮化鉭）吸收層膜。多層反射膜的均勻性（反射率均勻性<0.3%）直接決定曝光量的變異，因此對成膜精度的要求極為嚴格。
EUV 用空白光罩的主要供應商僅限於 AGC（旭硝子）、HOYA、S&S Tech（韓國）、信越化學工業（石英基板），被視為供應風險高的材料而受到關注。EUV 空白光罩的缺陷（多層膜內部的相位缺陷・表面異物）會直接影響最終光罩品質，特別是無法解析的相位缺陷（凸起缺陷・凹坑缺陷）會對良率造成嚴重影響。
作為空白光罩的品質保證，會進行缺陷密度量測（雷射散射檢測・AFM）、反射率・膜厚均勻性評估，以及表面粗糙度管理（表面粗糙度會影響 LWR）。降低 EUV 空白光罩缺陷是艾司摩爾・設備廠商・空白光罩廠商的共同課題，由整個業界共同投入。