EUV マスクブランクス

ガラス基板に複数の金属膜を積層した EUV 露光用のマスクブランクス。HOYA は EUV マスクブランクスで非常に高い市場シェアを持つ。

EUV マスクブランクスとは

HOYA の EUV マスクブランクスは、EUV 露光で使うフォトマスクの素材です。ガラス基板の上に複数の金属膜を積み重ねて作ります。マスクメーカーはこのブランクスに回路パターンを描いてフォトマスクに仕上げます。

HOYA は EUV マスクブランクスで非常に高い市場シェアを持ち、半導体の微細化に貢献してきた実績があります。3nm 世代などの先端ノードに対応し、位相シフト型や High-NA、Hyper-NA に向けた開発も進めています。

主な顧客はファウンドリと半導体メーカーです。2024年度の売上は、前年の在庫調整の反動と EUV による微細化の進展で、為替影響を除いて 35% 伸びました。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

EUV マスクブランクスは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

フォトマスクブランクスは、フォトマスク（レチクル）製造の基材となる精密ガラス基板です。

光学・医療・情報技術の世界的企業。半導体分野ではフォトマスクブランクのトップサプライヤーで、EUV用マスクブランクの開発・供給で世界的存在感を持つ。