IC1000 是 Nitta DuPont 經銷的 CMP（化學機械研磨）用研磨墊，定位為 CMP 用研磨墊的業界標準。研磨墊是與研磨液一起研磨晶圓表面、使其平坦的耗材。
配方始終如一，具有 20 年以上持續改良的品質管理實績。具備高研磨速率，以及消除段差的平坦化性能。
用於 Cu 的主體（bulk）研磨、多晶矽、鎢、STI（淺溝槽隔離）、氧化膜、拋光（buff）研磨等各種 CMP 製程。
IC1000 系列的特點與規格
Nitta DuPont・研磨墊・研磨頭零件
具有均勻微細發泡的聚氨酯系 CMP 研磨墊。被視為 CMP 用研磨墊的業界標準。
產品概要
主要規格
| 種類 | 研磨墊（發泡聚氨酯） |
|---|---|
| 相關產品 | 溝槽加工（XY・同心圓・放射）・穿孔（perforation） |
| 主要用途 | 元件 CMP 全般 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
CMP 用研磨墊的業界標準
20 年以上一致的配方與改良
高研磨速率與段差消除性
主要用途
- Cu・W・多晶矽的 CMP
- STI・氧化膜 CMP、拋光研磨
製造商
Nitta DuPont（總部：日本）