研磨墊・研磨頭零件是什麼

研磨墊・研磨頭(carrier)零件是在 CMP 或晶圓研磨中實際與加工面接觸的耗材。研磨墊負責保持研磨液並傳遞壓力,其硬度與溝槽形狀決定平坦度與研磨速率。持續使用後表面的氣孔會堵塞,因此須以鑽石修整器(dresser)定期進行修整。保持環(retaining ring)在防止晶圓滑出的同時調整外圍的研磨量,背膜(carrier film)則形成背面的壓力分布。即使設備相同,只要更換耗材結果就會改變,是影響很大的零件。

重點整理

在 CMP・晶圓研磨中直接接觸加工面的耗材
研磨墊的硬度與溝槽形狀決定平坦度與研磨速率
需以鑽石修整器定期修整
即使設備相同,更換耗材也會改變加工結果

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