New MX2000 是 Tazmo 的 CMP 研磨液供應系統。將 CMP 製程使用的研磨液稀釋・混合後，集中供應至多台 CMP 設備。據廠商表示，已有 20 年以上的實績，在許多半導體工廠中有助於高稼動率與穩定生產。
最大特點是不使用幫浦的獨家供應方式。以真空吸引與氮氣加壓輸送研磨液，因此能抑制幫浦剪切造成的研磨粒子凝聚。凝聚的粒子會造成研磨刮傷，因此供應方式直接影響 CMP 的良率。
除觸控面板操作外，還具備警報履歷、條碼管理與運轉資料記錄功能。該公司另有在 2 個機櫃中配置混合部・供應部・槽體的雙引擎型 iSIS1200J，以及金屬 CMP 用粉體氧化劑（APS）的溶解・供應系統。