PHI nanoTOF 3+ 是 ULVAC-PHI 的飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）。以離子束照射試片表面，量測飛出之二次離子的質量，以高靈敏度取得表面的元素與分子資訊。用於半導體的表面汙染與微小異物分析。
以三重聚焦型 TRIFT 靜電分析器，同時實現高質量解析度與高檢測靈敏度。空間解析度在高空間解析度模式下為 50nm。選配也支援串聯質譜分析（MS/MS），可解析分子結構。
以同時使用脈衝化低能量電子與氬離子的專利電荷中和技術，不需針對各試片調整即可分析絕緣物。沿用在 XPS 設備上已有實績的自動試片傳送機構，可無人進行多個絕緣試片的光譜量測與縱深分析。也可用 1 支離子槍完成從 FIB 功能的截面製作到 TOF 分析。