PHI nanoTOF 3+

XPS で培った全自動分析技術を入れた飛行時間型二次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）。試料搬送から測定まで自動で行える。

PHI nanoTOF 3+とは

PHI nanoTOF 3+ は、アルバック・ファイの飛行時間型二次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）です。試料表面にイオンビームを当てて飛び出す二次イオンの質量を測り、表面の元素や分子の情報を高感度に得ます。半導体の表面汚染や微小異物の分析に使われます。

三重収束型の TRIFT 静電アナライザーで、高い質量分解能と高い検出感度を同時に実現しています。空間分解能は高空間分解能モードで 50nm です。オプションでタンデム質量分析（MS/MS）にも対応し、分子構造の解析ができます。

パルス化した低エネルギー電子とアルゴンイオンを同時に使う特許の帯電中和で、試料ごとの調整なしに絶縁物を分析できます。XPS 装置で実績のある自動試料搬送機構を受け継ぎ、複数の絶縁試料のスペクトル測定や深さ方向分析を無人で行えます。FIB 機能による断面作製から TOF 分析までを 1 本のイオン銃で行うこともできます。

主な特長

•TRIFT アナライザーで高質量分解能と高感度を両立
•空間分解能 50nm（高空間分解能モード）
•パルス電子＋アルゴンイオンの自動帯電中和
•自動試料搬送による無人測定、FIB 断面作製

主な仕様

分析手法	TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析）
分析対象	表面の有機・無機汚染（微小部）
特徴	空間分解能 50 nm（高空間分解能モード）・全自動分析
主要用途	半導体・電池材料の表面汚染・組成分析

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	アルバック・ファイPHI nanoTOF 3+	島津製作所ICPMS-2050
分析手法	TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析）	ICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析）
分析対象	表面の有機・無機汚染（微小部）	液体中の微量無機元素
特徴	空間分解能 50 nm（高空間分解能モード）・全自動分析	独自トーチで従来機比約 2 倍の感度・Ar 消費量約 2/3
主要用途	半導体・電池材料の表面汚染・組成分析	薬液・超純水中の金属不純物分析