PHI GENESIS 是 ULVAC-PHI 的掃描式 X 射線光電子能譜（XPS）設備。對樣品照射 X 射線，量測飛出的光電子能量，分析表面的元素及其化學態。除了高性能的 XPS 分析功能外，擴充性高也是其特點。
可在同一台設備內、同一量測點進行各種表面電子能譜分析，支援硬 X 射線光電子能譜（HAXPES）、紫外光電子能譜（UPS）、低能量逆光電子能譜等。
可將聚焦至 5µm 以下的 X 射線束在樣品上掃描以取得二次電子影像（SXI），因此能像 SEM 一樣即時移動到關注區域並選擇分析區域。用於金屬、半導體、陶瓷、有機物表面的化學態分析。