MeRiT neXT 是蔡司（ZEISS）的電子束式光罩修補設備，被定位為業界標準。使用 ZEISS 的電子束鏡柱修補最小等級的缺陷。
在照射聚焦電子束的同時使前驅物分子吸附，可同時進行去除多餘膜層的不透明缺陷，以及補修缺膜的透明缺陷。對應各種類型的光罩。
ZEISS 的 MeRiT 系列另有著重 EUV 光罩、提高最小修補尺寸與邊緣定位精度的次世代機 MeRiT LE，面向 45nm 以上成熟節點的 MeRiT MG neo，以及以低成本進行至 32nm DUV 光罩修補的 MeRiT neXT BE。也展開以機械・氣體輔助去除微粒的 PRT 100-M。