MeRiT® neXT

集束電子ビーム誘起プロセスで白欠陥・黒欠陥を修正するフォトマスク修正装置。低エネルギー電子ビームカラムを搭載する。

MeRiT neXTとは

MeRiT neXT は、ZEISS の電子ビーム式フォトマスク修正装置で、業界標準と位置づけられています。ZEISS の電子ビームカラムを使い、最小級の欠陥を修正します。

集束した電子ビームを照射しながら前駆体分子を吸着させることで、余分な膜がある不透明欠陥の除去と、膜が欠けた透明欠陥の補修の両方を行います。さまざまな種類のフォトマスクに対応します。

ZEISS の MeRiT ファミリーには、EUV マスクを重視して最小修正サイズとエッジ配置精度を高めた次世代機 MeRiT LE、45nm 以上の成熟ノード向けの MeRiT MG neo、32nm までの DUV マスク修正を低コストで行う MeRiT neXT BE があります。機械的・ガス援用でパーティクルを除去する PRT 100-M も展開しています。

主な特長

•電子ビーム＋前駆体による透明・不透明欠陥の修正
•ZEISS 製の電子ビームカラム
•多様なフォトマスクに対応

主な仕様

修正方式	集束電子ビーム＋前駆体ガス
対象マスク	EUV・高耐久位相シフトマスクほか
特徴	Rapid Probe Microscope による修正検証・3D 形状解析
主要用途	先端フォトマスクの欠陥修正

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。