光罩修補設備是什麼

光罩修補設備是以原子・奈米等級去除、修補製造後光罩（Reticle）上缺陷的設備。這是避免報廢昂貴光罩（EUV 光罩每片超過 1億日圓）不可或缺的製程，以 FIB（聚焦離子束）或電子束進行精密加工。蔡司（Zeiss，德國）與 Nanometrics（美國）等是主要供應商。

重點整理

以 FIB・電子束在原子等級去除・修補光罩上的缺陷

避免 EUV 光罩（每片超過 1億日圓）報廢不可或缺的成本管理手段

蔡司（Zeiss，德國）在先進光罩修補設備上具有全球性的影響力

EUV 世代缺陷尺寸縮小，修補難度大幅提高

搭配光罩保護膜（Pellicle）也強化了製造後的汙染對策

光罩修補設備是什麼？

光罩修補設備是以 FIB（聚焦離子束）或電子束精密去除・修補光罩缺陷（黑缺陷・白缺陷）的設備。EUV 光罩每片超過 1億日圓，因此透過缺陷修補再利用是非常重要的成本管理手段。

光罩修補設備的主要廠商有哪些？

蔡司（Carl Zeiss，德國）在支援 EUV・ArF 的光罩修補設備上擁有全球最高市佔率。在以聚焦離子束（FIB）為基礎的修補設備方面，也使用源自 FEI 或 Agilent 的技術。

為什麼 EUV 世代的光罩修補變得困難？

EUV 曝光的最小圖案尺寸來到數 nm 等級，因此可修補之缺陷尺寸的下限也變得極小。此外，EUV 光罩為 Mo/Si 的多層反射膜結構，FIB 修補可能影響光罩下層的反射特性，因此修補後也需要驗證光學特性。

光罩清洗・乾燥設備是去除附著在光罩（Reticle）表面之微粒、有機汙染、霧化（Haze）的設備。

光罩塗佈顯影機是對空白光罩進行光阻塗佈，以及在電子束寫入後進行顯影的設備。

光罩蝕刻設備是以經過電子束寫入與顯影的光阻圖案為遮罩，蝕刻空白光罩上的鉻膜或相位移膜（MoSi），形成最終遮光圖案的設備。

光罩尺寸・平坦度量測設備是量測完成之光罩的圖案尺寸（CD）、位置精度（Registration）與基板平坦度的設備。

光罩倉儲系統（Reticle Stocker）是將光罩（Reticle）保管在潔淨環境中，並依曝光機的需求自動出庫的保管・傳送系統。

光罩寫入機（電子束寫入機）是使用電子束（EB：Electron Beam），在空白光罩上以高精度寫入電路圖案的設備。