SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

電子線（EB）検査装置メーカー3社

電子線（EB）検査装置は、電子ビームを用いてウェーハ上のパターン欠陥・電気的欠陥を高分解能で検出する装置です。光学式検査では捉えにくなナノメートルレベルの微細欠陥を検出でき、先端ロジック・メモリプロセスの歩留まり管理に不可欠です。KLAのVoyager™シリーズや日立ハイテクのEB検査システムが代表例です。

メーカー 3 社関連カテゴリ 5 件

メーカー

3社の主要メーカー

KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置

ウェーハ検査システムマスク検査装置

計測装置

CD計測膜厚計測オーバーレイ計測

データ分析

aiSIGHTKlarity

•検査・計測装置における世界的リーダー
•AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール

会社詳細をみる

公式サイトをみる

日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置

CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置

加工装置

プラズマエッチング装置

分析装置

走査電子顕微鏡（SEM）透過電子顕微鏡（TEM）

•CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
•2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供

会社詳細をみる

公式サイトをみる

カールツァイス（半導体）ドイツ

ASMLのEUV光学系を独占供給するドイツの精密光学メーカー。EUVリソグラフィ用投影レンズ・照明光学系・ウェーハ検査用電子顕微鏡（ORION）も展開。

EUV光学系

EUV投影レンズ（ASML向け）EUV照明光学系

検査・計測

ORION（イオン顕微鏡）Crossbeam（FIB-SEM）

•EUV露光装置用投影光学系をASMLに独占供給（戦略的不可欠パートナー）
•半導体計測用FIB-SEMシステム（Crossbeam）で業界標準機

会社詳細をみる

公式サイトをみる

関連カテゴリ

欠陥検査装置→

マスク検査装置→

光学式ウェーハ検査装置→

膜厚計測装置→

ウェハ検査装置→

関連用語

SEM（走査型電子顕微鏡）とは →ウェハ検査とは →CD-SEM（臨界寸法計測）とは →オーバーレイ計測とは →膜厚計測とは →欠陥検査とは →マスク検査とは →計測（メトロロジー）とは →OCD（光学的臨界寸法計測）とは →歩留まり管理とは →バーチャルメトロロジーとは →

比較・違いを学ぶ

電子ビーム検査と光学検査の違い（欠陥検査方式の比較）

電子ビーム検査（E-beam Inspection）は電子ビームでウェハを走査し二次電子・反射電子像から欠陥を検出する方式で、数nm級の微小欠陥や配線のオープン…

← 半導体装置カテゴリ一覧に戻る