Watlow/ヒータユニット・温度モニタ

ULTRAMIC® セラミックヒーター

AlN と熱膨張を合わせた発熱体で作る Watlow のセラミックヒーター。急速昇温が得意。

ULTRAMIC セラミックヒーターとは

ULTRAMIC は、Watlow の先進セラミックヒーターです。窒化アルミニウム(AlN)で作られ、熱的に整合させた独自の発熱体を持ちます。半導体製造装置のように、汚染のない加熱と素早い温度変化が求められる用途に向いています。

最高使用温度はリードの構造により 400°C または 600°C です。昇温速度は用途やヒーター設計、プロセス条件によって毎秒最大 150°C、最大ワット密度は 155W/cm² です。

汚染のないクリーンな加熱ができ、幾何学的な安定性が高いため、加熱サイクル中も一貫した熱接触を保ちます。電気絶縁性が高く、従来の金属ヒーターより耐薬品性に優れています。

主な特長

  • •窒化アルミニウム(AlN)製
  • •最高 400/600°C
  • •昇温最大 150°C/秒、155W/cm²
  • •非汚染・高絶縁・高耐薬品性

主な仕様

材質窒化アルミニウム(AlN)
使用温度~ 400 ℃(最大 150 ℃/秒で昇温)
特徴ワット密度最大 1,000 W/in²
主要用途チップテスト・共晶ダイボンディング

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目日本ガイシ(NGK Insulators)セラミックヒーター(AlN)WatlowULTRAMIC® セラミックヒーター
材質窒化アルミニウム(AlN)窒化アルミニウム(AlN)
使用温度~ 800 ℃~ 400 ℃(最大 150 ℃/秒で昇温)
特徴発熱体一体焼結で高い均熱性・金属汚染を低減ワット密度最大 1,000 W/in²
主要用途CVD 等のウェーハ加熱ステージチップテスト・共晶ダイボンディング

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •半導体製造装置のウェーハ加熱
  • •急速昇温が必要な熱処理

掲載カテゴリ

ULTRAMIC セラミックヒーターは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Watlow

産業用ヒーター、温度センサ、コントローラを一貫して手掛ける米国メーカー。半導体製造装置向けには、加熱・計測・制御を統合したサーマルソリューションを供給する。

Watlow の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

関連用語

出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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