蝕刻用語：台灣・中國大陸・英文對照
蝕刻是依照光阻圖形移除不要的薄膜。台灣說「蝕刻」「電漿」，中國大陸說「刻蚀」「等离子体」。
蝕刻是什麼
蝕刻分為使用電漿的乾式蝕刻與使用化學藥液的濕式蝕刻。先進製程的微細圖形幾乎都靠乾式蝕刻，濕式蝕刻多用於全面性的去除與清洗。
「plasma」在台灣譯作「電漿」，中國大陸譯作「等离子体」，字面完全不同，是兩岸用語差異最大的詞之一，讀文獻時特別容易卡住。
蝕刻用語表（13 個）
| 台灣用語 | 中國大陸用語 | 英文 |
|---|---|---|
| 蝕刻 | 刻蚀 | Etching |
| 乾式蝕刻 | 干法刻蚀 | Dry Etching |
| 濕式蝕刻 | 湿法刻蚀 | Wet Etching |
| 電漿 | 等离子体 | Plasma |
| 電漿蝕刻 | 等离子体刻蚀 | Plasma Etching |
| 感應耦合電漿 | 电感耦合等离子体 | Inductively Coupled Plasma (ICP) |
| 電容耦合電漿 | 电容耦合等离子体 | Capacitively Coupled Plasma (CCP) |
| 原子層蝕刻 | 原子层刻蚀 | Atomic Layer Etching (ALE) |
| 深反應式離子蝕刻 | 深反应离子刻蚀 | Deep Reactive Ion Etching (DRIE) |
| 選擇比 | 选择比 | Selectivity |
| 過蝕刻 | 过刻蚀 | Over Etch |
| 回蝕刻 | 回刻 | Etch Back |
| 選擇性蝕刻 | 选择性刻蚀 | Selective Etching |
相關企業
- 東京威力科創（TEL）（半導體製造設備（塗佈顯影・蝕刻・薄膜沉積））
最後更新：2026-10-06