東京威力科創（TEL）

日本最大的半導體設備廠商，塗佈顯影機在全球居領導地位。台灣子公司成立於 1996 年，在新竹設有訓練中心，並在台南興建營運中心。

基本資料

原文名稱

東京エレクトロン / Tokyo Electron

業務領域

半導體製造設備（塗佈顯影・蝕刻・薄膜沉積）

分類

半導體設備

公司概要

東京威力科創總部位於東京都港區，產品橫跨微影製程的塗佈顯影、乾式蝕刻與薄膜沉積，是少數能在前段製程多個關鍵步驟同時供貨的設備商。在日本國內，山梨縣韮崎市（穗坂）、岩手縣奧州市與熊本縣合志市都設有事業所。

台灣子公司「台灣東京威力科創」成立於 1996 年，2026 年邁入第 30 年。據報導，近六年員工人數與營收都成長近 3 倍，反映台灣晶圓廠擴產帶來的設備與服務需求。

在台據點

• 台灣東京威力科創
  地點：新竹
  台灣子公司（1996 年成立）。設有訓練中心，並規劃擴建無塵室
• 台南營運中心
  地點：台南
  動工時預計 2024 年下半年完工，樓地板面積約 3.5 萬平方公尺，可容納近千名員工，負責零組件處理、技術服務與維修

主力產品與服務

• 塗佈顯影機（CLEAN TRACK ACT、CLEAN TRACK LITHIUS 系列）
• 乾式蝕刻設備（Tactras、Certas 系列）
• 薄膜沉積設備（批次式與單晶圓式 CVD・ALD）

台灣讀者的觀察重點

• 台灣先進製程的擴產直接帶動 TEL 在台人力與據點的擴張，台南營運中心就是為了貼近南科客戶而設。
• 熊本合志事業所距離台積電熊本廠（JASM）所在的菊陽町不遠，是台日供應鏈在九州交會的例子之一。

相關用語解說

• EUV（極紫外光）微影
• FinFET（鰭式場效電晶體）
• GAA（環繞式閘極）
• 光阻

相關製程用語

• 微影（曝光）
• 蝕刻
• 薄膜沉積

其他半導體設備企業

• SCREEN（斯庫林）（半導體製造設備（晶圓清洗・塗佈顯影・熱處理））
• 愛德萬測試（Advantest）（半導體測試設備（ATE））
• 迪思科（DISCO）（晶圓切割・研磨設備）
• Lasertec（光罩・晶圓檢測設備）
• 國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）（批次式薄膜沉積・熱處理設備）
• 荏原製作所（EBARA）（CMP 設備・真空幫浦・尾氣處理設備）

資料來源

• 數位時代：TEL 在台布局
• T客邦：東京威力科創擴大台南營運中心
• 1111 人力銀行新聞：台南營運中心開工動土
• 優分析：台灣子公司成立 30 年