EVG6200 NT 是 EV Group 的光罩對準曝光機。可處理小片至 200mm 的晶圓・基板，產能為首層曝光每小時 180 片、自動對準時每小時 140 片。
對準精度為正面對準 ±0.5µm 以下、背面 ±1.0µm 以下、IR ±2.0µm 以下、接合對準 ±2.0µm 以下、奈米壓印 ±3.0µm 以下。具備即時補正偏移的動態對準功能，以及非接觸式的自動楔形補償。
光源可選擇汞燈或 UV-LED，並支援 SmartNIL 奈米壓印。用於薄光阻與厚光阻的曝光、深凹槽的圖案化，以及化合物半導體等脆弱材料，或易碎・薄型・翹曲晶圓的處理。有半自動與自動兩種架構，整合隔振功能，並支援 SECS/GEM。