光罩對準曝光機是什麼
光罩對準曝光機（Mask Aligner）是讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印圖案的曝光設備。與進行縮小投影的步進機不同，其光學系統簡單、設備價格低，在數 μm 左右解析度即足夠的 MEMS、功率半導體、化合物半導體、先進封裝領域仍在使用。方式有讓光罩與晶圓密合的接觸式、稍微隔開的近接式，以及透過鏡頭的投影式，依解析度與光罩壽命的取捨分別使用。實務上的優點是較容易處理厚膜光阻與有翹曲的基板。
重點整理
讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印
有接觸式・近接式・投影式 3 種方式
在 MEMS・功率半導體・封裝領域仍在使用
較容易處理厚膜光阻與有翹曲的基板
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曝光機的其他分類
烘烤・UV 固化設備
烘烤・UV 固化設備是以加熱或紫外線照射使塗佈膜硬化、穩定化的設備。
塗佈顯影機塗佈顯影機（Coater/Developer）是在微影製程中進行光阻塗佈（coating）與曝光後顯影（develop）的一體化設備。
DUV 曝光機DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。
電子束直寫設備電子束直寫設備是不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案的曝光設備。
EUV 曝光機EUV 曝光機（Extreme Ultraviolet Lithography）是使用波長 13.5nm 的極紫外光，將超微細電路圖案轉印到晶圓上的曝光設備。
i-line 步進機i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈 i-line（波長 365nm）為光源的曝光設備，目前仍廣泛用於 0.18μm 以上成熟節點的半導體製造。
雷射直寫設備（LDI）雷射直寫設備（LDI／無光罩曝光設備）是不透過光罩，以雷射光掃描描繪圖案的曝光設備。
奈米壓印微影（NIL）奈米壓印微影（NIL：Nanoimprint Lithography）是將光罩（模板）上的奈米結構圖案直接壓在紫外線硬化樹脂等材料上以轉印圖案的微影技術。