DWL 66+ 是 Heidelberg Instruments 的雷射直寫設備。用於研發、原型製作與光罩製作，已導入許多大學與研究機構的無塵室。
可切換寫入模式，選擇解析度與描繪速度的平衡。最小線寬 0.3µm 的模式為 3mm²/分，1µm 的模式為 150mm²/分，4µm 的模式為 2,000mm²/分。經改良的高解析度模式也可描繪最小 200nm。
光源可選擇適用於所有寬頻光阻的 405nm 雷射，或也適用於 SU-8 等 i-line 光阻的 375nm UV 雷射。不需光罩即可直接從設計資料描繪，因此能縮短試作週期。