MLA 300 是 Heidelberg Instruments 的量產用無光罩對準曝光機。不使用光罩，以雷射直接在光阻上描繪圖形，因此不需製作光罩，也能立即因應設計變更。最小線寬 1.5µm，針對工業規模的生產最佳化。
可對應最大 315×315mm、厚度 0.1～10mm 的基板。光源為壽命長的高功率二極體雷射，可從 375nm（7W）與 405nm（20W）中選擇。
300×300mm 區域的曝光時間，以 Write Mode II（最小 1.5µm）搭配 2 組曝光模組為 10 分鐘，以 Write Mode III（最小 3µm）為 5 分鐘。2 組曝光模組可達最高 9,000mm²/分的描繪速度。用於先進封裝、感測器、MEMS、探針卡、電力電子等。