雷射直寫設備（LDI）是什麼
雷射直寫設備（LDI／無光罩曝光設備）是不透過光罩，以雷射光掃描描繪圖案的曝光設備。以 DMD 等空間光調變器調變光線，可直接依設計資料曝光，因此不需要光罩的製作費用與交期。解析度不如電子束描繪，但產能較高，用於 IC 載板、印刷電路板、MEMS、功率半導體等線寬數 μm 等級的用途。能依基板的翹曲或伸縮修正描繪資料，也是在構裝基板領域受到採用的原因。
重點整理
不需光罩，依設計資料以雷射掃描直接描繪
不需光罩製作費用與交期，適合少量多樣
解析度不如電子束描繪，但產能較高
可依基板的翹曲・伸縮修正描繪資料
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曝光機的其他分類
烘烤・UV 固化設備
烘烤・UV 固化設備是以加熱或紫外線照射使塗佈膜硬化、穩定化的設備。
塗佈顯影機塗佈顯影機（Coater/Developer）是在微影製程中進行光阻塗佈（coating）與曝光後顯影（develop）的一體化設備。
DUV 曝光機DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。
電子束直寫設備電子束直寫設備是不使用光罩，以電子束直接在晶圓上描繪圖案的曝光設備。
EUV 曝光機EUV 曝光機（Extreme Ultraviolet Lithography）是使用波長 13.5nm 的極紫外光，將超微細電路圖案轉印到晶圓上的曝光設備。
i-line 步進機i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈 i-line（波長 365nm）為光源的曝光設備，目前仍廣泛用於 0.18μm 以上成熟節點的半導體製造。
光罩對準曝光機光罩對準曝光機（Mask Aligner）是讓光罩與晶圓直接相對，以等倍一次轉印圖案的曝光設備。
奈米壓印微影（NIL）奈米壓印微影（NIL：Nanoimprint Lithography）是將光罩（模板）上的奈米結構圖案直接壓在紫外線硬化樹脂等材料上以轉印圖案的微影技術。