MLA 300

量産向けのマスクレスアライナー。基板表面の変動に合わせて描画し、マスク製作を不要にする。

MLA 300とは

MLA 300 は、Heidelberg Instruments の量産向けマスクレスアライナーです。フォトマスクを使わずにレーザーでレジストへ直接パターンを描くため、マスクの製作が要らず、設計変更にもすぐ対応できます。最小線幅 1.5µm で工業規模の生産に最適化されています。

基板は最大 315×315mm、厚さ 0.1〜10mm に対応します。光源は寿命の長い高出力ダイオードレーザーで、375nm（7W）と 405nm（20W）から選べます。

300×300mm の領域の露光時間は、Write Mode II（最小 1.5µm）で露光モジュール 2 基なら 10 分、Write Mode III（最小 3µm）なら 5 分です。露光モジュール 2 基で最大 9,000mm²/分の描画速度を持ちます。先端パッケージ、センサー、MEMS、プローブカード、パワーエレクトロニクスなどに使われます。

主な特長

•マスクレスのレーザー直接描画、最小線幅 1.5µm
•最大 315×315mm の基板
•375nm／405nm の高出力ダイオードレーザー
•露光モジュール 2 基で最大 9,000mm²/分

主な仕様

方式	マスクレス露光（量産機）
対応基板	最大 315 × 315 mm
解像度	1.5 µm
主要用途	工業生産（MES 連携）

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Heidelberg InstrumentsMLA 300	Heidelberg InstrumentsDWL 66+
方式	マスクレス露光（量産機）	レーザー直接描画（研究・試作機）
解像度	1.5 µm	可変（書込みヘッドを選択）
主要用途	工業生産（MES 連携）	研究開発・プロトタイピング・マスク製作