Suprema 是 Mattson Technology 的乾式去光阻設備,在遠端式感應耦合電漿(ICP)源上結合了專利的接地法拉第屏蔽。
特點是可用高密度電漿進行強還原性處理,微粒少,對晶圓表面的電漿損傷也小。也支援大量使用氟的製程。
2 個腔體各自獨立運作,各配有真空傳送模組,並以 4 臂機械手臂高速傳送。ICP 單元全球已有 1 萬台以上、平台已有 700 套以上系統在運轉。
Mattson 採用附法拉第屏蔽 ICP 電漿源的乾式去光阻設備。已用於記憶體・晶圓代工・邏輯的量產。
Suprema 是 Mattson Technology 的乾式去光阻設備,在遠端式感應耦合電漿(ICP)源上結合了專利的接地法拉第屏蔽。
特點是可用高密度電漿進行強還原性處理,微粒少,對晶圓表面的電漿損傷也小。也支援大量使用氟的製程。
2 個腔體各自獨立運作,各配有真空傳送模組,並以 4 臂機械手臂高速傳送。ICP 單元全球已有 1 萬台以上、平台已有 700 套以上系統在運轉。
| 方式 | 乾式去光阻(法拉第屏蔽 ICP) |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
| 組成 | 模組化組成・真空/大氣機械手臂(每小時超過 300 片) |
| 主要用途 | 大量去光阻(bulk strip)・DRAM/3D NAND 用(Suprema XP) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Mattson Technology(總部:美國)