灰化設備（光阻灰化）是什麼
灰化設備是以氧電漿產生的氧自由基，將光阻分解為二氧化碳與水，並以氣體形式去除的設備。由於不使用藥液，不會產生廢液，能有效率地處理大量晶圓。將電漿產生室與處理室分開的下游（downflow）方式，可避免離子對底層造成損傷，只供應自由基。Low-k膜會因氧電漿使介電常數上升，因此使用以氫或氮進行的低損傷灰化。若有殘留物，則搭配濕式光阻剝除。
重點整理
以氧自由基分解光阻並以氣體形式去除
不產生廢液、適合大量處理，是與濕式剝除的不同之處
下游方式可避免離子損傷
Low-k膜使用氫・氮系的低損傷灰化
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