WONIK IPS

ALD・CVD装置を中核に展開する韓国の半導体装置メーカー。3D NAND・FinFET向けの薄膜形成装置でサムスン・SKハイニックスに採用実績を持つ。

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当サイトでの位置づけ

SemiraiのバッチALD・CVDカテゴリでは、Samsung・SKハイニックス向けのバッチ式ALD装置で韓国国内トップシェアを持ち、3D NAND・FinFET向け薄膜形成の主要サプライヤーとして参照されます。

企業の強み

バッチ式ALD装置で韓国国内トップシェア。メモリ向け量産実績が豊富

低圧CVD（LPCVD）・プラズマCVD（PECVD）も展開

ASM Internationalと並ぶALDの有力サプライヤー

主要製品・ソリューション

ALD装置

•バッチALD（TERA）
•枚葉ALD

CVD装置

•LPCVD
•PECVD

関連装置カテゴリ

ALD装置（バッチ）

ALD装置（Atomic Layer Deposition：原子層堆積）は、原子層単位で薄膜を精密成膜できる最先端の成膜装置です。

メーカー 7 社 CVD装置

CVD装置（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）は、原料ガスの化学反応によりウェハ表面に高品質な薄膜を形成する成膜装置です。

メーカー 11 社成膜装置

成膜装置は、ウェハ表面に絶縁膜、導電膜、半導体膜などの薄膜を数百ナノメートルから原子レベルの厚さで形成する前工程の重要装置です。

メーカー 9 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、WONIK IPSを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

ALDとは→CVDとは→成膜とは→

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