当サイトでの位置づけ
SemiraiのALD・エピタキシャル成長カテゴリでは、GAA・FinFET向けHigh-k/メタルゲートのALD装置と、SiGe・III-Vエピタキシャル成長装置の世界的リーダーとして参照されます。
企業の強み
ALD装置で世界トップシェア。GAA・FinFET向けハイK/メタルゲートに必須
SiGe・III-Vエピタキシャル成長装置でも高い技術力
ASMLとの連携でオランダ半導体装置エコシステムの中核を担う
主要製品・ソリューション
ALD装置
- •Pulsar（熱ALD）
- •Eagle（プラズマALD）
- •Synapse（バッチALD）
エピタキシャル成長装置
- •Intrepid ES（SiGe/Si）
- •EmerALD（III-V）
ASMインターナショナルの製品
SONORA（拡散炉）XP4 EmerALD®（ALD装置）XP4 Pulsar®（ALD装置）XP8 Synergis®（ALD装置）XP8 DCM™ PEALD（ALD装置）XP8 QCM PEALD（ALD装置）XP8 JQCM™ PEALD（ALD装置）XP8 Magma PEALD（ALD装置）Epsilon® 2000（エピタキシャル成長装置）Intrepid® ES（エピタキシャル成長装置）Previum®（エピ前プリクリーン）（ドライ洗浄装置）PE1O6A／PE1O8（SiC エピ装置）（SiCパワー半導体製造装置）PE2O8™（SiC エピ装置）（SiCパワー半導体製造装置）XP8 DCM™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））XP8 Vertos™（PECVD（プラズマCVD））A400 DUO（拡散炉）
関連装置カテゴリ
半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ASMインターナショナルを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
同じトピックの用語
配線・メタライゼーション・ゲートスタック（High-k/メタルゲート） のトピックで関連する用語です。
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