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ASMインターナショナル

ALD(原子層堆積)装置とエピタキシャル成長装置のグローバルリーダー。次世代ロジック・メモリプロセスに不可欠な高品質薄膜形成技術を提供。

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当サイトでの位置づけ

SemiraiのALD・エピタキシャル成長カテゴリでは、GAA・FinFET向けHigh-k/メタルゲートのALD装置と、SiGe・III-Vエピタキシャル成長装置の世界的リーダーとして参照されます。

企業の強み

ALD装置で世界トップシェア。GAA・FinFET向けハイK/メタルゲートに必須
SiGe・III-Vエピタキシャル成長装置でも高い技術力
ASMLとの連携でオランダ半導体装置エコシステムの中核を担う

主要製品・ソリューション

ALD装置

  • Pulsar(熱ALD)
  • Eagle(プラズマALD)
  • Synapse(バッチALD)

エピタキシャル成長装置

  • Intrepid ES(SiGe/Si)
  • EmerALD(III-V)

関連装置カテゴリ

ALD装置
エピタキシー装置
成膜装置

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ASMインターナショナルを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

ALDとは →エピタキシー(エピ成長)とは →成膜とは →エピタキシャルウェハ(エピウェハ)とは →

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