光洋サーモシステム
ジェイテクトグループの熱処理装置メーカー。半導体向けの縦型拡散炉・横型拡散炉、ランプアニール装置などを供給し、酸化膜形成や不純物拡散、活性化アニールの工程を支える。
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当サイトでの位置づけ
Semirai の熱処理装置カテゴリでは、縦型・横型の拡散炉とランプ加熱式の急速熱処理（RTP）を国内で供給する中核メーカーとして位置づけられます。酸化・拡散・アニールを担う装置群の起点です。
企業の強み
縦型・横型の拡散炉を自社で設計製造
ランプ加熱による急速熱処理（RTP）に対応
半導体以外の産業炉も含む幅広い熱処理技術
主要製品・ソリューション
拡散炉
- •縦型拡散炉
- •横型拡散炉
- •酸化炉
急速熱処理
- •ランプアニール装置
- •RTP装置
光洋サーモシステムの製品
関連装置カテゴリ
拡散炉
拡散炉（Diffusion Furnace）は、複数のウェハ（数十〜百枚以上）を石英管内に並べ、高温（600〜1200°C）の雰囲気ガス中で同時に熱処理するバッチ式熱処理装置です。
メーカー 6 社RTP（急速熱処理）RTP（Rapid Thermal Processing：急速熱処理）装置は、ハロゲンランプやフラッシュランプを用いて半導体ウェハを数秒〜数十秒で高温（400〜1200°C）に急速加熱・急速冷却する枚葉式熱処理装置です。
メーカー 5 社酸化炉酸化炉は、シリコンウェハを高温（800〜1100°C）の水蒸気または乾燥酸素雰囲気に置き、シリコン表面を熱酸化してSiO₂（シリコン酸化膜）を形成する熱処理装置です。
メーカー 4 社熱処理装置熱処理装置は、半導体ウェハを高温（200〜1100°C程度）に加熱して、不純物の活性化・酸化膜形成・シリサイド形成・アニール（結晶欠陥回復）などの熱反応を行う前工程の重要装置群です。
メーカー 6 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、光洋サーモシステムを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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